6 月 10 日消息 界面新聞報(bào)道，近期，上海微電子裝備 (集團(tuán))股份有限公司披露，將在 2021-2022 年交付第一臺(tái) 28nm 工藝的國(guó)產(chǎn)沉浸式光刻機(jī)。國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)將從此前的 90nm 工藝一舉突破到 28nm 工藝。

　　據(jù)了解，上海微電子裝備 (集團(tuán))股份有限公司 (簡(jiǎn)稱(chēng) SMEE)主要致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開(kāi)發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷(xiāo)售及技術(shù)服務(wù)。公司設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD 面板、MEMS、LED、Power Devices 等制造領(lǐng)域。

　　目前上海微電子光刻機(jī)產(chǎn)品包括 IC 前道制造 SSX600 系列光刻機(jī);IC 后道先進(jìn)封裝 SSB500 系列光刻機(jī); LED、MEMS、Power Devices 制造 SSB300 系列光刻機(jī); TFT 曝光 SSB200 系列光刻機(jī)。

　　其中，SSX600 系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺(tái)掩模臺(tái)技術(shù)，可滿足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求。該設(shè)備可用于 8 寸線或 12 寸線的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。

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