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      穩(wěn)懋半導體預計產能利用率維持 7 至 8 成,新廠最快 3 年后貢獻營收

        11 月 2 日消息,據(jù)臺灣媒體報道,全球最大砷化鎵晶圓代工服務公司穩(wěn)懋半導體日前表示,隨著新產能加入貢獻,預計產能利用率將維持在 7 至 8 成。

      穩(wěn)懋半導體預計產能利用率維持 7 至 8 成,新廠最快 3 年后貢獻營收

      穩(wěn)懋

        穩(wěn)懋表示,第 3 季底已完成 5000 片產能擴充,目前月產能達 4.1 萬片,林口 C 廠則還有一層樓擴充空間,將視客戶需求評估擴產,隨著新產能加入,穩(wěn)懋預計第 4 季產能利用率將從 9 成降至 7 至 8 成,維持健康水準。

        穩(wěn)懋表示,南科高雄園區(qū)新廠則是為未來需求準備,預計最快 3 年后土建完成后,可望貢獻營收。

        穩(wěn)懋半導體成立于 1999 年,位于林口華亞科技園區(qū),是全球首座以六英吋晶圓生產砷化鎵微波集成電路 (GaAs MMIC)的專業(yè)晶圓代工服務公司。穩(wěn)懋客戶群除了全球射頻集成電路設計公司 (RFIC Design Houses)外,并致力吸引與全球整合組件制造 (IDM)大廠合作。

        穩(wěn)懋目前提供兩大類砷化鎵晶體管制程技術:異質接面雙極性晶體管 (HBT)和應變式異質接面高遷移率晶體管 (pHEMT)。

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