6 月 15 日消息 今天，中微半導體設備(上海)股份有限公司(簡稱“中微公司”)首臺 8 英寸甚高頻去耦合反應離子(CCP)刻蝕設備 Primo AD-RIE 200 順利付運客戶生產(chǎn)線。

　　Primo AD-RIE 200 是中微公司自主研發(fā)的新一代 8 英寸甚高頻去耦合反應離子(CCP)刻蝕設備?；谝驯粯I(yè)界廣泛認可的 12 英寸 CCP 刻蝕設備的成熟工藝與特性，Primo AD-RIE 200 在技術創(chuàng)新和生產(chǎn)效率方面都有了進一步提升，能夠滿足不同客戶 8 英寸晶圓的加工需求。

　　為提高生產(chǎn)效率，Primo AD-RIE 200 刻蝕設備可靈活配置多達三個雙反應臺反應腔(即六個反應臺)。此外，Primo AD-RIE 200 提供了可升級至 12 英寸刻蝕設備系統(tǒng)的靈活解決方案，以滿足客戶生產(chǎn)線未來可能擴產(chǎn)的需求。

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