盡管2019年Intel已經(jīng)量產(chǎn)了10nm工藝，但是因?yàn)槎嗄暄悠?，?dǎo)致10nm工藝進(jìn)度沒跟上，目前還處于產(chǎn)能爬坡階段，以致于Intel的處理器出現(xiàn)供應(yīng)短缺的問題。為了徹底解決這些問題，Intel還在努力推進(jìn)7nm工藝，最快2021年量產(chǎn)。

　　7nm是Intel下一代工藝的重要節(jié)點(diǎn)，而且是高性能工藝，其地位堪比現(xiàn)在的14nm工藝，而且它還是Intel首次使用EUV光刻的制程工藝，意義重大。

　　根據(jù)Intel之前公布的信息，其7nm EUV工藝相比10nm工藝晶體管密度翻倍，每瓦性能提升20%，設(shè)計(jì)復(fù)雜度降低了4倍。

　　7nm工藝的首款產(chǎn)品就是Xe架構(gòu)的GPU加速芯片，主要應(yīng)用于數(shù)據(jù)中心AI及高性能計(jì)算，最快2021年量產(chǎn)，也就是2年后7nm EUV就能擔(dān)大梁了。

　　目前Intel正在加速7nm EUV工藝的步伐，今年8月份就訂購用于7nm EUV工藝節(jié)點(diǎn)的材料和設(shè)備，比預(yù)期速度更快。

特別提醒：本網(wǎng)內(nèi)容轉(zhuǎn)載自其他媒體，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)。其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)本站證實(shí)，對(duì)本文以及其中全部或者部分內(nèi)容、文字的真實(shí)性、完整性、及時(shí)性本站不作任何保證或承諾，并請(qǐng)自行核實(shí)相關(guān)內(nèi)容。本站不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。如若本網(wǎng)有任何內(nèi)容侵犯您的權(quán)益，請(qǐng)及時(shí)聯(lián)系我們，本站將會(huì)在24小時(shí)內(nèi)處理完畢。