據(jù)媒體報(bào)道，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺(tái)28nm工藝的國(guó)產(chǎn)的沉浸式光刻機(jī)。

雖然這與當(dāng)今國(guó)際頂尖的7nm乃至是5nm光刻機(jī)還有數(shù)代的隔閡，但是差距已經(jīng)大大縮小，畢竟在此之前國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還是90nm。

據(jù)悉，上海微電子是國(guó)內(nèi)技術(shù)最領(lǐng)先的光刻設(shè)備廠商，從低端切入各個(gè)細(xì)分市場(chǎng)，現(xiàn)已成為封測(cè)龍頭企業(yè)的重要供應(yīng)商，國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有率高達(dá)80%，全球市場(chǎng)占有率也有40%，同時(shí)旗下LED/MEMS/功率器件光刻機(jī)性能指標(biāo)領(lǐng)先，LED光刻機(jī)市占率第一。

上海微電子現(xiàn)有4大系列的光刻機(jī)產(chǎn)品，其中600系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)面向IC前道制造，采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺(tái)掩模臺(tái)技術(shù)，可用于90nm、110nm、280nm工藝和200mm、300mm晶圓生產(chǎn)。

500系列面向IC后道先進(jìn)封裝，300系列面向LED、MEMS、功率器件制造，200系列面向TFT曝光。