6月29日消息 在 2020 年 SEMICON CHINA 展覽會上，北方華創(chuàng)正式發(fā)布了 NMC612G 12 英寸金屬刻蝕機(jī)。官方介紹，該設(shè)備具有優(yōu)秀的刻蝕均勻性調(diào)節(jié)能力與良好的顆粒管控能力，可滿足集成電路、功率半導(dǎo)體、硅基微顯示等領(lǐng)域的金屬刻蝕需求。

　　NMC612G 12 英寸金屬刻蝕機(jī)是電感耦合高密度等離子體干法刻蝕機(jī)，具有多種均勻性控制手段，如電流分布控制技術(shù)、氣體比例控制技術(shù)、靜電卡盤溫控技術(shù)等，為客戶提供了多種均勻性調(diào)節(jié)選擇，拓寬了工藝空間。其中，靜電卡盤及傳輸系統(tǒng)不但適用于常規(guī)硅片的傳輸，也適用于不同領(lǐng)域的玻璃片、SOG 片等晶圓的傳輸及吸附，可多元化滿足各領(lǐng)域多種需求。此外，針對刻蝕后殘留氣體導(dǎo)致的金屬腐蝕問題，該設(shè)備采用微波去膠技術(shù)，利用 O2 產(chǎn)生等離子體，可以較高的速率實(shí)現(xiàn)不同金屬刻蝕后 PR 掩膜的去除，并保證金屬長期存放過程中不被腐蝕。

　　目前 NMC612G 金屬刻蝕機(jī)已經(jīng)成功進(jìn)入集成電路、功率半導(dǎo)體、硅基微顯示等領(lǐng)域的多家生產(chǎn)線，其良好的工藝性能和更低的擁有成本，正在助力客戶大規(guī)模量產(chǎn)。

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