作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備，光刻機(jī)一直牽動人心，制程工藝越先進(jìn)就要離不開先進(jìn)光刻機(jī)。ASML副總裁Anthony Yen日前表態(tài)，如果沒有EUV光刻機(jī)，那么芯片廠商是造不出7nm以下工藝芯片的。

　　光刻是半導(dǎo)體芯片制造中最費(fèi)時間也是最費(fèi)成本的環(huán)節(jié)之一，而且它決定了芯片的工藝水平，常說的XXnm工藝主要是看光刻機(jī)水平，10nm工藝之后難度越來越大，光刻機(jī)也需要升級到EUV級別。

　　臺積電在第一代7nm工藝上沒有使用EUV光刻機(jī)，但是7nm之后的工藝就很難避開EUV光刻機(jī)了，理論上可以用多重曝光的方式制造5nm級別的芯片，但是成本、良率都是個問題，無法拒絕EUV光刻機(jī)。

　　目前ASML公司是唯一一個能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司，他們做出這樣的表態(tài)其實(shí)也不讓人意外，畢竟這是一臺售價高達(dá)1.2億歐元、約合10億一臺的高端設(shè)備，全球半導(dǎo)體制造廠商都要看ASML的臉色。

特別提醒：本網(wǎng)內(nèi)容轉(zhuǎn)載自其他媒體，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)。其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)本站證實(shí)，對本文以及其中全部或者部分內(nèi)容、文字的真實(shí)性、完整性、及時性本站不作任何保證或承諾，并請自行核實(shí)相關(guān)內(nèi)容。本站不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。如若本網(wǎng)有任何內(nèi)容侵犯您的權(quán)益，請及時聯(lián)系我們，本站將會在24小時內(nèi)處理完畢。