11月5日消息 據(jù)每日經(jīng)濟新聞報道，世界光刻機巨頭ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV光刻機。據(jù)了解，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。

　　另外，ASML也帶來了其整體光刻解決方案，包括先進控制能力的光刻機臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術(shù)，讓邊緣定位精度不斷提高。

　　光刻機(Mask Aligner) 又名掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

 

　　作為全球芯片光刻技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)者，本次ASML(阿斯麥)以“光刻未來，攜手同行”為主題亮相第三屆進博會技術(shù)裝備展區(qū)。時間是2020年11月5日至10日，位于技術(shù)裝備展區(qū)3C6-002。

　　亮點如下：

　　ASML 整體光刻解決方案，全方位保駕護航芯片生產(chǎn)的良率和產(chǎn)能。

　　光刻機模型近距離接觸，帶你領(lǐng)略光刻的神奇。

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