6 月 15 日消息 今天，中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(簡稱“中微公司”)首臺 8 英寸甚高頻去耦合反應(yīng)離子(CCP)刻蝕設(shè)備 Primo AD-RIE 200 順利付運(yùn)客戶生產(chǎn)線。

　　Primo AD-RIE 200 是中微公司自主研發(fā)的新一代 8 英寸甚高頻去耦合反應(yīng)離子(CCP)刻蝕設(shè)備?；谝驯粯I(yè)界廣泛認(rèn)可的 12 英寸 CCP 刻蝕設(shè)備的成熟工藝與特性，Primo AD-RIE 200 在技術(shù)創(chuàng)新和生產(chǎn)效率方面都有了進(jìn)一步提升，能夠滿足不同客戶 8 英寸晶圓的加工需求。

　　為提高生產(chǎn)效率，Primo AD-RIE 200 刻蝕設(shè)備可靈活配置多達(dá)三個雙反應(yīng)臺反應(yīng)腔(即六個反應(yīng)臺)。此外，Primo AD-RIE 200 提供了可升級至 12 英寸刻蝕設(shè)備系統(tǒng)的靈活解決方案，以滿足客戶生產(chǎn)線未來可能擴(kuò)產(chǎn)的需求。

特別提醒：本網(wǎng)信息來自于互聯(lián)網(wǎng)，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)。其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)本站證實(shí)，對本文以及其中全部或者部分內(nèi)容、文字的真實(shí)性、完整性、及時(shí)性本站不作任何保證或承諾，并請自行核實(shí)相關(guān)內(nèi)容。本站不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。如若本網(wǎng)有任何內(nèi)容侵犯您的權(quán)益，請及時(shí)聯(lián)系我們，本站將會在24小時(shí)內(nèi)處理完畢。