7 月 9 日消息 近日，國內半導體設備廠商至純科技在互動平臺表示，目前至純科技 28nm 節(jié)點全部濕法工藝設備已認證完畢。

　　據(jù)了解，芯片制造分為邏輯芯片設計、芯片代工、封裝測試三大環(huán)節(jié)。其中芯片代工包括晶圓制造、曝光、刻蝕、清洗等流程。濕法清洗設備屬于半導體供給鏈中的清洗環(huán)節(jié)，清洗是根據(jù)不同芯片制程工藝的需求，來對硅晶圓表面進行無損傷清洗，對芯片制造過程中殘留的顆粒、曝光、刻蝕制程形成的自然氧化層以及金屬污染、有機物、犧牲層、拋光殘留物等雜質進行清理。清洗環(huán)節(jié)占芯片制造工藝步驟的 30% 以上，在芯片制造工藝步驟中，清洗環(huán)節(jié)所占的比例是最大的。

　　至純科技表示，國內目前有三家在濕法工藝設備端提供中高階濕法制程設備，分別是至純科技、北方華創(chuàng)和盛美，國內廠商的市場占比在逐年上升中。

　　資料顯示，至純科技成立于 2000 年，主營業(yè)務為高純工藝系統(tǒng)的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售;半導體濕法清洗設備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售;光傳感應用及相關光學元器件的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。財報顯示，至純科技 2020 年濕法設備出貨量超過 30 臺，新增訂單 5.3 億元，增長 211.8%。

　　除了 28nm 工藝節(jié)點之外，上海證券報的報道中還指出，至純科技 14nm 及 7nm 工藝預計 2022 年可供客戶驗證，客戶包括中芯國際、華虹集團、長鑫存儲、華為、臺灣力晶等行業(yè)領先者。

　　值得一提的是，上個月中國電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究院電子信息研究所所長溫曉君在接受采訪時表示：“我國將在 2022 年底完成有關 14 納米制程設備的突破”，至純科技將在 2022 年交付給華為、中芯國際認證的 14 納米及 7 納米清洗設備，一定程度上也提高這則消息的可靠性。

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