1月19日最新消息，Intel宣布第一個下單訂購了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機。

　　TWINSCAN EXE:5200是ASML的高NA(數值孔徑)EUV光刻機，其吞吐量超每小時220片晶圓(wph)。

　　從路線圖來看，EXE:5200預計最快2024年底投入使用，2025年開始大規(guī)模應用于先進芯片的生產。

　　事實上，4年前，ASML的第一代高NA(0.55 NA)光刻機EXE:5000，Intel就是第一個下單的公司。不過當前的7nm、5nm芯片還并非是其生產，而是0.33NA EUV光刻機。

　　和0.33NA光刻機相比，0.55NA的分辨率從13nm升級到8nm，可以更快更好地曝光更復雜的集成電路圖案，突破0.33NA單次構圖32nm到30nm間距的極限。

　　外界預計，第一代高NA光刻機EXE:5000會率先用于3nm節(jié)點，至于EXE:5200，按照Intel的制程路線圖，2025年至少是20A或者18A(A代表埃米)，也就是2nm和1.8nm或者20埃米和18埃米。

　　此前，ASML發(fā)言人曾對媒體透露，更高的光刻分辨率將允許芯片縮小1.7倍、同時密度增加2.9倍。未來比3nm更先進的工藝，將極度依賴高NA EUV光刻機。

　　最后不得不說，Intel能搶到第一單，除了和ASML一致緊密合作外，當然也是因為“鈔能力”，Gartner分析師Alan Priestley稱，0.55NA下一代EUV光刻機單價將翻番到3億美元(約合19億元人民幣)。

特別提醒：本網信息來自于互聯網，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點。其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內容未經本站證實，對本文以及其中全部或者部分內容、文字的真實性、完整性、及時性本站不作任何保證或承諾，并請自行核實相關內容。本站不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。如若本網有任何內容侵犯您的權益，請及時聯系我們，本站將會在24小時內處理完畢。