2 月 7 日消息，2 月 7 日，上海微電子舉行首臺 2.5D / 3D 先進封裝光刻機發(fā)運儀式，這標志著中國首臺 2.5D / 3D 先進封裝光刻機正式交付客戶。

　　去年 9 月 18 日，上海微電子舉行了新產(chǎn)品發(fā)布會，宣布推出新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機。

　　據(jù)悉，當時推出的新品光刻機主要應用于高密度異構集成領域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光視場等特點，可幫助晶圓級先進封裝企業(yè)實現(xiàn)多芯片高密度互連封裝技術的應用，滿足異構集成超大芯片封裝尺寸的應用需求，同時將助力封裝測試廠商提升工藝水平、開拓新的工藝，在封裝測試領域共同為中國集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出更多的貢獻。

　　上海微電子曾表示，當時已與多家客戶達成新一代先進封裝光刻機銷售協(xié)議，首臺將于年內(nèi)交付。

　　上海微電子裝備 (集團) 股份有限公司 (簡稱 SMEE) 主要致力于半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設計、制造、銷售及技術服務。公司設備廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD 面板、MEMS、LED、Power Devices 等制造領域。

特別提醒：本網(wǎng)信息來自于互聯(lián)網(wǎng)，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點。其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)本站證實，對本文以及其中全部或者部分內(nèi)容、文字的真實性、完整性、及時性本站不作任何保證或承諾，并請自行核實相關內(nèi)容。本站不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。如若本網(wǎng)有任何內(nèi)容侵犯您的權益，請及時聯(lián)系我們，本站將會在24小時內(nèi)處理完畢。