ITBEAR科技資訊4月11日消息，長期以來，外界一直期望蘋果能盡快實(shí)現(xiàn)屏下Face ID等技術(shù)，將劉海完全隱藏在屏幕底部，達(dá)到完全無開孔的效果。再加上iPhone四邊等寬的設(shè)計(jì)，視覺效果應(yīng)該非常好。

　　據(jù)報(bào)道，美國專利商標(biāo)局最近于4月5日正式授予蘋果一項(xiàng)新專利，專利顯示它可以在屏幕下方隱藏Face ID組件，屏幕仍然可以正常顯示，面部識(shí)別也可以正常工作。

　　不過，該專利剛剛獲得批準(zhǔn)，這說明iPhone 14完全不可能攜帶該技術(shù)。iPhone 15系列的一些早期工作可能已經(jīng)開始，有可能使用該技術(shù)。但iPhone 15的開發(fā)周期內(nèi)可能無法調(diào)試改進(jìn)，考慮到目前只獲得專利批準(zhǔn)，該技術(shù)尚未形成，所以也不太可能搭載該技術(shù)。

　　從現(xiàn)階段的情況來看，iPhone 16系列將是最有可能推出該技術(shù)的機(jī)型，可以實(shí)現(xiàn)完全無開孔、無劉海，這也符合之前分析師羅斯-楊和郭明錤的分析吻合。

　　至于iPhone 14系列，結(jié)合目前消息，已經(jīng)開始試生產(chǎn)，標(biāo)準(zhǔn)版本的兩款機(jī)型將繼續(xù)使用小劉海，而Pro版本將升級(jí)為感嘆號(hào)打孔方案。

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