今年6月初,臺積電CEO魏哲家在線上技術動向說明會上透露了年內將建成2nm芯片試生產線計劃,此舉將進一步擴大臺積電在尖端半導體工藝的領先優(yōu)勢。此外,臺積電3nm芯片將于2022年下半年啟動量產。
目前,在臺積電量產的半導體工藝中,性能最好的是5nm,目前已經被iPhone 12等旗艦手機芯片采用。
據日經最新報道,蘋果和Intel正在測試臺積電新一代制程技術,二者將成為臺積電3nm的首批客戶,最快芯片產出時間預計在明年下半年至后年初。
首先采用3nm工藝的蘋果產品將是iPad, 至于明年上市的新一代iPhone由于量產日程的原因,將暫時無緣。
據了解,英特爾則至少開了兩個以上的3nm案子,包括個人計算機及數據中心的CPU。
眾所周知,工藝制程越先進,芯片性能越好,單位面積所產生功耗越低,但隨之而來的是,制造難度和成本也加倍提升。
據了解,臺積電3nm與目前的5nm相比,性能提升10-15%,功耗降低25-30%。

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