7 月 9 日消息 近日，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備廠商至純科技在互動(dòng)平臺(tái)表示，目前至純科技 28nm 節(jié)點(diǎn)全部濕法工藝設(shè)備已認(rèn)證完畢。

　　據(jù)了解，芯片制造分為邏輯芯片設(shè)計(jì)、芯片代工、封裝測(cè)試三大環(huán)節(jié)。其中芯片代工包括晶圓制造、曝光、刻蝕、清洗等流程。濕法清洗設(shè)備屬于半導(dǎo)體供給鏈中的清洗環(huán)節(jié)，清洗是根據(jù)不同芯片制程工藝的需求，來(lái)對(duì)硅晶圓表面進(jìn)行無(wú)損傷清洗，對(duì)芯片制造過(guò)程中殘留的顆粒、曝光、刻蝕制程形成的自然氧化層以及金屬污染、有機(jī)物、犧牲層、拋光殘留物等雜質(zhì)進(jìn)行清理。清洗環(huán)節(jié)占芯片制造工藝步驟的 30% 以上，在芯片制造工藝步驟中，清洗環(huán)節(jié)所占的比例是最大的。

　　至純科技表示，國(guó)內(nèi)目前有三家在濕法工藝設(shè)備端提供中高階濕法制程設(shè)備，分別是至純科技、北方華創(chuàng)和盛美，國(guó)內(nèi)廠商的市場(chǎng)占比在逐年上升中。

　　資料顯示，至純科技成立于 2000 年，主營(yíng)業(yè)務(wù)為高純工藝系統(tǒng)的研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售;半導(dǎo)體濕法清洗設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售;光傳感應(yīng)用及相關(guān)光學(xué)元器件的研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售。財(cái)報(bào)顯示，至純科技 2020 年濕法設(shè)備出貨量超過(guò) 30 臺(tái)，新增訂單 5.3 億元，增長(zhǎng) 211.8%。

　　除了 28nm 工藝節(jié)點(diǎn)之外，上海證券報(bào)的報(bào)道中還指出，至純科技 14nm 及 7nm 工藝預(yù)計(jì) 2022 年可供客戶(hù)驗(yàn)證，客戶(hù)包括中芯國(guó)際、華虹集團(tuán)、長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)、華為、臺(tái)灣力晶等行業(yè)領(lǐng)先者。

　　值得一提的是，上個(gè)月中國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究院電子信息研究所所長(zhǎng)溫曉君在接受采訪時(shí)表示：“我國(guó)將在 2022 年底完成有關(guān) 14 納米制程設(shè)備的突破”，至純科技將在 2022 年交付給華為、中芯國(guó)際認(rèn)證的 14 納米及 7 納米清洗設(shè)備，一定程度上也提高這則消息的可靠性。

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